本文源自:金融界天眼查
天眼查App显示,近日,上海创消新技术发展有限公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布。
摘要显示,该发明涉及芯片设计及制造,方案是:按5nm蚀刻线宽设计芯片版图,设计蚀刻掩模版后,用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版;晶圆准备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上表面,用等离子体进行干法蚀刻,蚀刻结束后移去蚀刻掩模版,清洁晶圆,进行后续常规的芯片制造步骤。
该发明不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。
天眼查显示,上海创消新技术发展有限公司成立于2019年3月,法定代表人为刘明革,注册资本50万人民币,经营范围包括电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术领域内的技术开发等,由刘明革和刘佳慧共同持股。
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